[인쇄계2009.09]신그래픽스 판재 기술 관련 특허 소송에서 승소

신그래픽스 판재 기술 관련 특허 소송에서 승소

써멀 인쇄판재와 이와 관련된 화학약품을 제조, 전 세계 시장에 공급하고 있는 쳉두신그래픽스(이하 신그래픽스, www.xingraphics.com)는 아그파에 의한 특허 침해 소송에 대해 지난 7월 23일 헤이그 지방법원으로부터 유리한 판결을 받았다고 밝혔다. 소송의 내용은 신그래픽스의 FIT와 FIT Xtra™ 써멀 판재기술에 있어 아그파의 특허인 ‘포지티브 포토센서티브 리소그래픽 인쇄 판재를 만드는 방식’과 관련된 미쓰비시화학 이름으로 된 특허번호 EP823327를 침해했다는 주장이었다. 이 특허는 2004년 10월 라스트라를 인수하며 아그파가 획득한 것이다. 신그래픽스는 이번 판결로 자체 기술을 유지하게 되었으며 아그파의 특허번호 EP823327을 침해했다는 것은 근거 없는 것으로 판정되었다.
신그래픽스의 사프웬 하이자지(Safwen Hijazi) 부사장은 “이번 판결은 우리 신그래픽스와 소중한 협력업체들은 물론 전 세계 고객들에 있어서도 써멀 CtP 판재기술에 있어 대등하거나 더 나은 품질을 제공하는 업체의 판재를 기존 판재의 대안으로 고객 스스로가 선택할 수 있는 접근 수단을 마련하게 되었다는 데 있어 진일보한 판결이라고 생각한다”면서 “지적 재산권의 소유를 인정하되 앞으로 신그래픽스는 자사에 대한 부당한 진술에 대해서는 강경하게 대처해 나갈 것”이라고 밝혔다.